1.多弧離子、磁過(guò)濾電弧離子、直流磁控濺射、中頻磁控等鍍膜工藝
2.被鍍工件表面的輝光放電清洗
3.鍍膜前的離子轟擊
4.鍍膜時(shí)的離子加速
改善膜層質(zhì)量,提高膜層均勻性
具有效率高、運(yùn)行穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)
增加膜層與基體結(jié)合力,提高沉積速率
強(qiáng)大的抑弧功能,有效抑制靶面異常放電
改變沉積規(guī)則,調(diào)整膜層顏色
項(xiàng)目 | 型號(hào) | ||||
LDP-10/A LDP-10/B | LDP-20/A LDP-20/B | LDP-30/A LDP-30/B | LDP-40/A LDP-40/B | LDP系列電源 | |
輸入電壓 | 三相交流380V ±10%,50~60 Hz | ||||
輸出功率 | 10KW | 20KW | 30KW | 40KW | 10KW-100KW可定制 |
A款:工作電流 | 2A-10A | 3A-20A | 4A-30A | 5A-40A | 2A-100A可定制 |
A款:工作電壓 | 100V~1000V(空載電壓>1000V) | ||||
B款:工作電流 | 2A-12.5A | 3A-25A | 4A-37.5A | 5A-50A | - |
B款:工作電壓 | 100V~800V(空載電壓>800V) | - | |||
輸出頻率 | 20kHz~350kHz(常規(guī)頻率:20kHz~80kHz) | ||||
占空比 | 10%~80%(最大94%) | ||||
工作方式 | 恒壓、恒流、恒功率 | ||||
調(diào)節(jié)精度 | ≤1% | ||||
工作效率 | ≥90% | ||||
響應(yīng)時(shí)間 | <500ns | ||||
通訊方式 | RS485、光纖等通訊端口,MODBUS通訊協(xié)議 | ||||
冷卻方式 | 風(fēng)冷+水冷 | ||||
尺寸(mm) | 390(D)×425(W)×142(H) | 710(D)×435(W)×225(H) | 710(D)×435(W)×225(H) 810(D)×435(W)×280(H) | ||
安全防護(hù) | 過(guò)流、過(guò)壓、短路、過(guò)熱保護(hù),接地保護(hù),漏電保護(hù) |
備案號(hào):粵ICP備2021088173號(hào)