真空鍍膜電源

　　在電弧離子鍍技術(shù)中，脈沖偏壓扮演著至關(guān)重要的角色。以下是脈沖偏壓在該技術(shù)中的主要作用：

　　滅弧速度快：

　　當(dāng)采用脈沖偏壓時(shí)，特別是在主弧轟擊時(shí)，通過設(shè)定如20%的占空比，可以使工件上所施加的高偏壓自動(dòng)“過零”，從而切斷對(duì)已經(jīng)形成電弧的供電，使電弧自動(dòng)熄滅。這有效地防止了連續(xù)的大弧光對(duì)工件造成的燒傷。

　　工件溫升低：

　　脈沖偏壓是間斷供電的，因此工件只在“占空”的時(shí)段內(nèi)受到吸引過來的離子轟擊。在不導(dǎo)通的時(shí)段內(nèi)，工件不受離子轟擊，這顯著減少了總的平均能量輸入。因此，與采用直流電源時(shí)工件連續(xù)受到離子轟擊相比，工件的溫度會(huì)相對(duì)較低。

　　例如，在高速鋼等500℃左右回火的工模具上沉積氮化鈦等硬質(zhì)涂層時(shí)，為了優(yōu)化金屬的離化率和提高硬質(zhì)涂層的致密度，通常會(huì)將占空比調(diào)到80%左右。而對(duì)于低溫回火的工模具和鋅鋁合金件，則需要將占空比調(diào)低以降低沉積溫度。

　　大熔滴減少，膜層組織更加致密：

　　脈沖偏壓電源的應(yīng)用使得膜層組織中的大熔滴明顯減少或細(xì)小化。盡管脈沖偏壓不能徹底清除大顆粒，但其對(duì)小尺寸的大顆粒凈化效果比較明顯，這對(duì)于減少膜層中的缺陷、提高膜層質(zhì)量具有重要意義。

　　由于工件上的膜層在連續(xù)生長(zhǎng)過程中間斷接受離子轟擊，這種脈沖偏壓的作用有助于松弛膜層生長(zhǎng)過程中的應(yīng)力，從而獲得與基體結(jié)合良好的厚涂層。目前，利用這種技術(shù)可以沉積出4~7um的硬質(zhì)涂層，顯著提高工模具的壽命。

　　提高鍍層質(zhì)量和功能：

　　脈沖偏壓電弧離子鍍能夠?qū)崿F(xiàn)高質(zhì)量的鍍層，因?yàn)殡x子束的高能量和高速度使得鍍層在表面形成緊密的結(jié)構(gòu)，具有良好的附著力和耐腐蝕性。這種鍍層不僅可以提高材料的表面硬度和磨損性能，還可以增強(qiáng)材料的耐熱性和耐腐蝕性，延長(zhǎng)材料的使用壽命。

　　綜上所述，脈沖偏壓在電弧離子鍍技術(shù)中起到了至關(guān)重要的作用，包括快速滅弧、降低工件溫升、減少大熔滴和提高鍍層質(zhì)量等。這些作用使得電弧離子鍍技術(shù)能夠制備出高質(zhì)量、高性能的薄膜材料，廣泛應(yīng)用于航空航天、汽車制造、電子設(shè)備等領(lǐng)域。

　　深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958