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單極性脈沖磁控濺射電源離子源中頻磁控濺射電源直流磁控濺射電源脈沖電源脈沖偏壓電源弧電源 HIPIMS電源直流偏壓電源陽極電源

單極性脈沖磁控濺射電源

電弧反應(yīng)靈敏,提高鍍膜效率

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離子源電源

操作容易、制成的薄膜純度高、質(zhì)量好，厚度可較準確控制、成膜速率快，效率高；薄膜的生長機理比較簡單

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正弦波中頻磁控濺射電源

平衡靶材濺射速率，節(jié)省靶材成本，具備普通中頻電源所有功能，鍍膜質(zhì)量及均勻性均有所上升。

方波中頻磁控濺射電源

鍍膜速度提升20%以上，可調(diào)方波，具備普通中頻電源所有功能

中頻磁控濺射電源

膜層致密、光潔度較好,增加離化率

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直流磁控濺射電源

? 輸出穩(wěn)定，精度高，效率高

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PECVD電源

用于PECVD鍍膜

離子加速電源

用于鍍膜時的離子加速

離子滲電源

改善膜層質(zhì)量，提高膜層均勻性

直流偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，抑制工件表面異常放電

HIPIMS高功率脈沖磁控濺射電源

?繞射性優(yōu)異，抗腐蝕、耐磨損

單極性脈沖偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，提高膜層均勻性

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直流偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，抑制工件表面異常放電

單極性脈沖偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，提高膜層均勻性

雙極性脈沖偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，提高膜層均勻性

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弧電源

無源觸點引弧方式，電弧反應(yīng)靈敏

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HIPIMS高功率脈沖磁控濺射電源

?繞射性優(yōu)異，抗腐蝕、耐磨損

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直流偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，抑制工件表面異常放電

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陽極電源

輔助清洗工件，提高結(jié)合力

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1-10KW 20-60KW 60-120KW

陽極電源

輔助清洗工件，提高結(jié)合力

直流偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，抑制工件表面異常放電

正弦波中頻磁控濺射電源

平衡靶材濺射速率，節(jié)省靶材成本，具備普通中頻電源所有功能，鍍膜質(zhì)量及均勻性均有所上升。

方波中頻磁控濺射電源

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離子源電源

操作容易、制成的薄膜純度高、質(zhì)量好，厚度可較準確控制、成膜速率快，效率高；薄膜的生長機理比較簡單

弧電源

無源觸點引弧方式，電弧反應(yīng)靈敏

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PECVD電源

用于PECVD鍍膜

離子加速電源

用于鍍膜時的離子加速

離子滲電源

改善膜層質(zhì)量，提高膜層均勻性

陽極電源

輔助清洗工件，提高結(jié)合力

直流偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，抑制工件表面異常放電

正弦波中頻磁控濺射電源

平衡靶材濺射速率，節(jié)省靶材成本，具備普通中頻電源所有功能，鍍膜質(zhì)量及均勻性均有所上升。

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PECVD電源

用于PECVD鍍膜

離子加速電源

用于鍍膜時的離子加速

離子滲電源

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陽極電源

輔助清洗工件，提高結(jié)合力

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方波中頻磁控濺射電源

鍍膜速度提升20%以上，可調(diào)方波，具備普通中頻電源所有功能

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離子鍍膜離子滲裝飾鍍膜工具鍍膜蒸發(fā)鍍膜連續(xù)線鍍膜光學(xué)鍍膜等離子拋光

陽極電源

輔助清洗工件，提高結(jié)合力

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用于PECVD鍍膜

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